溅射镀膜是在真空条件下,利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附着力强,膜层均匀性好等优点,适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备,广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。
溅射镀膜是在真空条件下,利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附着力强,膜层均匀性好等优点,适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备,广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。
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